[实用新型]一种具有清洁装置的碳化硅抛光机有效
申请号: | 201620383539.4 | 申请日: | 2016-04-29 |
公开(公告)号: | CN205703774U | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 宗艳民 | 申请(专利权)人: | 山东天岳晶体材料有限公司 |
主分类号: | B24B55/06 | 分类号: | B24B55/06 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人: | 苗峻 |
地址: | 250118 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 一种具有清洁装置的碳化硅抛光机,包括底座,所述底座的上侧面设有固定板以及由电机带动进行旋转的第一抛光平台和第二抛光平台,所述第一抛光平台的一侧设有垂直安装于底座的打磨装置,所述打磨装置包括位于第一抛光平台正上方的打磨棒;所述的固定板上设置有储液仓、储水箱和抛光装置。本实用新型通过在固定板上设有分流的储水箱,可清洗第一抛光平台和第二抛光平台,将打磨后的粉尘和抛光后的废液冲到底座周围的废液收集槽内,保证工作环境的清洁,防止产生污垢,影响抛光质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 清洁 装置 碳化硅 抛光机 | ||
【主权项】:
一种具有清洁装置的碳化硅抛光机,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的上侧面设有固定板(12)以及由电机(11)带动进行旋转的第一抛光平台(2)和第二抛光平台(3),所述第一抛光平台(2)的一侧设有垂直安装于底座(1)的打磨装置(5),所述打磨装置(5)包括位于第一抛光平台(2)正上方的打磨棒(10);所述的固定板(12)上设置有储液仓(15)、储水箱(13)和抛光装置(6),所述的抛光装置(6)包括位于第二抛光平台(3)正上方的抛光片(9),所述的储液仓(15)、储水箱(13)底端分别连通抛光液输送管(14)一端、导水管(7)一端,抛光液输送管(14)另一端连接有位于第二抛光平台(3)正上方的第一喷头(4),导水管(7)另一端连接有位于第一抛光平台(2)正上方的第二喷头(19)和位于第二抛光平台(3)正上方的第三喷头(8);所述的底座(1)周围设有废液收集槽(17)。
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