[实用新型]直立式靶材结构以及溅镀设备有效
申请号: | 201620450325.4 | 申请日: | 2016-05-17 |
公开(公告)号: | CN205590795U | 公开(公告)日: | 2016-09-21 |
发明(设计)人: | 巫喜钰;蔡博旭 | 申请(专利权)人: | 中华映管股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 王正茂;丛芳 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种直立式靶材结构以及溅镀设备。直立式靶材结构包含靶材主体。靶材主体具有相对的第一表面以及第二表面,第一表面配置成连接背板,靶材主体还具有第三表面、第四表面、第五表面以及第六表面,第三表面连接第一表面与第二表面,第四表面相对第三表面而连接第一表面,第五表面相对第三表面而连接第二表面,第六表面连接第四表面与第五表面,且该第六表面越接近该第五表面越远离该第一表面。借此,本实用新型的直立式靶材结构,能降低回溅物或副产物掉落至靶材主体的第二表面的机会。 | ||
搜索关键词: | 立式 结构 以及 设备 | ||
【主权项】:
一种直立式靶材结构,其特征在于,所述直立式靶材结构包含靶材主体,所述靶材主体具有相对的第一表面以及第二表面,所述第一表面配置成连接背板,所述靶材主体还具有第三表面、第四表面、第五表面以及第六表面,所述第三表面连接所述第一表面与所述第二表面,所述第四表面相对所述第三表面而连接所述第一表面,所述第五表面相对所述第三表面而连接所述第二表面,所述第六表面连接所述第四表面与所述第五表面,且所述第六表面越接近所述第五表面越远离所述第一表面。
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