[实用新型]一种用于生产型磁控溅射系统的升降机构有效
| 申请号： | 201620494944.3 | 申请日： | 2016-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN205773055U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 佘鹏程;龚俊;彭立波;陈特超;范江华 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | B66F3/46 | 分类号： | B66F3/46;B66F3/44;B66F3/22;C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008 | 代理人： | 周长清;戴玲 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于生产型磁控溅射系统的升降机构，包括同步带机构、顶板组件和四根竖直设置的升降丝杆，所述同步带机构用于驱动四根升降丝杆同步转动，所述顶板组件安装于四根升降丝杆的丝杆螺母上。本实用新型采用一个驱动机构即可实现顶板组件的升降，结构简单紧凑，经济节约，采用同步带机构和升降丝杆配合，操作方便，升降过程稳定可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 生产 磁控溅射 系统 升降 机构 | ||
【主权项】：
一种用于生产型磁控溅射系统的升降机构，其特征在于：包括同步带机构（1）、顶板组件（2）和四根竖直设置的升降丝杆（3），所述同步带机构（1）用于驱动四根升降丝杆（3）同步转动，所述顶板组件（2）安装于四根升降丝杆（3）的丝杆螺母（31）上。
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