[实用新型]一种氟化镱用沉积真空炉有效
申请号: | 201620554071.0 | 申请日: | 2016-06-08 |
公开(公告)号: | CN205688009U | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | 滕刚;闫海滨 | 申请(专利权)人: | 南京施密特光学仪器有限公司 |
主分类号: | C23C14/52 | 分类号: | C23C14/52;C23C14/06 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 210000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种氟化镱用沉积真空炉,包括真空炉体(1),在所述真空炉体(1)的圆周上设有若干观察孔(2),在所述观察孔(2)之间设有导轨(3),在所述导轨(3)上设有在所述导轨(3)上滑动至观察孔(2)的摄像机(4)。本实用新型实现了实时监控,且只需一名操作人员即可完成监控,同时节省了人力物力,提升了监控实时性。 | ||
搜索关键词: | 一种 氟化 沉积 真空炉 | ||
【主权项】:
一种氟化镱用沉积真空炉,包括真空炉体(1),其特征在于:在所述真空炉体(1)的圆周上设有若干观察孔(2),在所述观察孔(2)之间设有导轨(3),在所述导轨(3)上设有可在所述导轨(3)上滑动的摄像机(4);所述摄像机(4)通过所述导轨(3)滑动至所述观察孔(2)位置。
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