[实用新型]硅片清洗系统有效
| 申请号： | 201620762668.4 | 申请日： | 2016-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN205762630U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 吕海强;郑安;黄杨康 | 申请（专利权）人： | 浙江金乐太阳能科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04 |
| 代理公司： | 慈溪慈恒专利代理事务所(特殊普通合伙)33249 | 代理人： | 戚秋鹏 |
| 地址： | 315200 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种硅片清洗系统，包括清洗槽和储水罐；所述清洗槽和储水罐通过管路连接；所述储水罐设有第一水位传感器和第二水位传感器；所述第一水位传感器在储水罐上端，所述第二水位传感器在储水罐下端；所述储水罐一侧还设有出水口；所述管路设有第一水泵；所述出水口设有第二水泵；所述第一水位传感器、第二水位传感器、第一水泵和第二水泵与控制器电气连接。本实用新型的硅片清洗系统具备自动控制储水罐内废水的水位，无需人工职守，大大提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 清洗 系统 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗系统，其特征在于：包括清洗槽(1)和储水罐(2)；所述清洗槽(1)和储水罐(2)通过管路(10)连接；所述储水罐(2)设有第一水位传感器(3)和第二水位传感器(4)；所述第一水位传感器(3)在储水罐(2)上端，所述第二水位传感器(4)在储水罐(2)下端；所述储水罐(2)一侧还设有出水口(5)；所述管路(10)设有第一水泵(6)；所述出水口(5)设有第二水泵(7)；所述第一水位传感器(3)、第二水位传感器(4)、第一水泵(6)和第二水泵(7)与控制器(8)电气连接。
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