[实用新型]一种小型磁控溅射镀镆机有效
| 申请号： | 201620962923.X | 申请日： | 2016-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN206069996U | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 李双江;张旭;赵闯 | 申请（专利权）人： | 沈阳科晶自动化设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈阳技联专利代理有限公司21205 | 代理人： | 张志刚 |
| 地址： | 110171 辽宁省沈*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种小型磁控溅射镀镆机，涉及一种镀镆机，所述镀镆机包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁力耦合器、磁控溅射靶、涡轮分子泵、挡板阀、隔膜泵、全量程规、冷却水循环系统、机箱；圆柱型真空室上部安有一个上盖，上盖由两根气压杆支撑，由旋纽锁紧，两只磁控靶倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台的中心；加热旋转样品台位于圆柱型真空室的底部，安装于磁力耦合器之上；挡板阀上面设有全量程规，并且连接在涡轮分子泵之上。本实用新型采用PLC+触摸屏控制，具有操作维护简单、装样、取样方便、组合灵活，体积小巧，所以搬运、安装方便，特别适合于学院教学、科研使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 小型 磁控溅射 镀镆机 | ||
【主权项】：
一种小型磁控溅射镀镆机，其特征在于，所述镀镆机包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁力耦合器、磁控溅射靶、涡轮分子泵、挡板阀、隔膜泵、全量程规、冷却水循环系统、机箱；圆柱型真空室上部安有一个上盖，上盖由两根气压杆支撑，由旋纽锁紧，两只磁控靶倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台的中心；加热旋转样品台位于圆柱型真空室的底部，安装于磁力耦合器之上；挡板阀上面设有全量程规，并且连接在涡轮分子泵之上。
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