[实用新型]一种薄膜温度传感器及六靶台双离子束反应溅射沉积设备有效
| 申请号： | 201621020373.6 | 申请日： | 2016-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN206019863U | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 刁克明 | 申请（专利权）人： | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 |
| 主分类号： | G01K7/04 | 分类号： | G01K7/04;C23C14/46 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司11609 | 代理人： | 周娇娇,谭辉 |
| 地址： | 100071 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种薄膜温度传感器及六靶台双离子束反应溅射沉积设备，其中薄膜温度传感器至少包括基片；薄膜热电偶，其设置在所述基片上；所述薄膜热电偶包括正极热电偶膜和负极热电偶膜，所述正极热电偶膜和负极热电偶膜的内端对接形成热电偶接点；所述正极热电偶膜和负极热电偶膜的厚度均为0.5～0.8μm；焊盘膜，其设置在正极热电偶膜和负极热电偶膜的外端上，用于与外接引线连接；保护膜，其设置在所述薄膜热电偶上，并覆盖薄膜热电偶所在基片区域表面。本实用新型的薄膜温度传感器，镀覆的薄膜热电偶厚度小，对温度的响应时间快，并且热电偶封装以后体积小，测量精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 温度传感器 靶台 离子束 反应 溅射 沉积 设备 | ||
【主权项】：
一种薄膜温度传感器，其特征在于，至少包括：基片；薄膜热电偶，其设置在所述基片上；所述薄膜热电偶包括正极热电偶膜和负极热电偶膜，所述正极热电偶膜和负极热电偶膜的内端对接形成热电偶接点；所述正极热电偶膜和负极热电偶膜的厚度均为0.5～0.8μm；焊盘膜，其设置在正极热电偶膜和负极热电偶膜的外端上，用于与外接引线连接；保护膜，其设置在所述薄膜热电偶上，并覆盖薄膜热电偶所在基片区域表面。
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