[实用新型]多晶硅还原炉有效
申请号: | 201621079201.6 | 申请日: | 2016-09-23 |
公开(公告)号: | CN206203898U | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 汪绍芬;石何武;杨永亮;严大洲;汤传斌;姚心 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C01B33/035 | 分类号: | C01B33/035 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种多晶硅还原炉,包括炉体、底盘组件、进气系统和出气系统,底盘组件包括底盘本体、电极、进气端管和出气端管,炉体与底盘本体限定出反应腔,多个电极设在底盘本体上且为沉积载体硅芯提供安装基础,多个电极在底盘本体上排列成多圈,每圈电极等间距设置且中心位于底盘本体的中心轴线上,多圈电极沿底盘本体的径向间隔设置,多个进气端管设在底盘本体上且位于相邻圈电极之间以及底盘本体的中心处,多个出气端管设在底盘本体上且位于最外圈电极与最内圈电极之间;进气系统与多个进气端管相连;出气系统与多个出气端管相连。根据本实用新型的多晶硅还原炉,具有结构紧凑、集成大型化、单炉产量高、生产质量优良、节能高效的特点。 | ||
搜索关键词: | 多晶 还原 | ||
【主权项】:
一种多晶硅还原炉,其特征在于,包括:炉体;底盘组件,所述底盘组件包括:底盘本体,所述底盘本体与所述炉体限定出反应腔,多个电极,多个所述电极设在所述底盘本体上且为所述反应腔内的沉积载体硅芯提供安装基础,多个所述电极在所述底盘本体上排列成多圈,每圈电极等间距设置且中心位于所述底盘本体的中心轴线上,多圈电极沿所述底盘本体的径向间隔设置,多个进气端管,多个所述进气端管设在所述底盘本体上且位于相邻圈电极之间以及所述底盘本体的中心处,多个出气端管,多个所述出气端管设在所述底盘本体上且位于最外圈电极与最内圈电极之间;进气系统,所述进气系统与多个所述进气端管相连;出气系统,所述出气系统与多个所述出气端管相连。
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