[实用新型]防止曝光光罩污染的装置及曝光装置有效
| 申请号： | 201621100550.1 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN206209288U | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 李会丽;李喆;李志丹 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种防止曝光光罩污染的装置及曝光装置，所述防止曝光光罩污染的装置包括气体供给模块，包括上层出风口和下层出风口，所述上层出风口和下层出风口形成包括上层等离子气流和下层压缩空气流的双层气幕；气体回收模块，设置在与供气模块相对的一侧，所述气体回收模块回收并排放所述气体供给模块形成的气流、大部分挥发物和非污染的小分子物质。本实用新型利用气体供给模块形成的压缩空气气流所产生的气体剪切力将大部分污染物带走；部分没被剪切力带走的挥发物与上层等离子气流进行化学反应而转变为非污染的小分子物质，由此产生的双重保护以在线防止光罩受到污染。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 曝光 污染 装置 | ||
【主权项】：
一种防止曝光光罩污染的装置，其特征在于，所述防止曝光光罩污染的装置包括：气体供给模块，设置在曝光光罩下方并且包括上层出风口和下层出风口，所述上层出风口和下层出风口形成包括上层等离子气流和下层压缩空气流的双层气幕，所述下层压缩空气流产生的剪切力带走大部分挥发物，所述上层等离子气流与进入其中的剩余的挥发物发生化学反应以将所述剩余的挥发物转变成非污染的小分子物质；气体回收模块，与所述气体供给模块相对地设置，所述气体回收模块回收并排放所述气体供给模块形成的气流、大部分挥发物和非污染的小分子物质。
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