[实用新型]一种天平加载头位姿检测设备有效
| 申请号： | 201621137058.1 | 申请日： | 2016-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN206160939U | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 江孝国;李洪;杨兴林;王远;杨国君;龙全红;张小丁;李一丁;蒋薇;李伟峰 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G06T7/00;G06K9/32;G06K9/62 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 | 代理人： | 冯龙 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种天平加载头位姿检测设备，所述设备包括指示光源、位置探测结构，所述指示光源安装在待检测天平加载头上表面，所述位置探测结构包括指示光斑照射靶面、光学成像系统、位置探测器，所述指示光斑照射靶面开设有中心孔，所述位置探测器的端面设有开口，所述开口中心线与所述中心孔中心线重合，所述位置探测器固定在所述指示光斑照射靶面的背面，所述光学成像系统位于所述指示光斑照射靶面的正面前方，实现了利用本申请中的设备加载头位置姿态的大范围变化监测与复位位置姿态附近的高精密检测可以同时进行，并满足了加载头位置姿态检测的大范围、高精度测量要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 天平 加载 头位姿 检测 设备 | ||
【主权项】：
一种天平加载头位姿检测设备，其特征在于，所述设备包括：指示光源、位置探测结构，所述指示光源安装在待检测天平加载头上表面， 所述位置探测结构包括：指示光斑照射靶面、光学成像系统、位置探测器，所述指示光斑照射靶面开设有中心孔，所述位置探测器的端面设有开口，所述开口中心线与所述中心孔中心线重合，所述位置探测器固定在所述指示光斑照射靶面的背面，所述光学成像系统位于所述指示光斑照射靶面的正面前方。
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