[实用新型]一种掩膜板承载装置有效
| 申请号： | 201621150332.9 | 申请日： | 2016-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN206193434U | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 常坤;翟云华;沙双庆;王雷 | 申请（专利权）人： | 南京中电熊猫平板显示科技有限公司;南京华东电子信息科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204 | 代理人： | 徐莹 |
| 地址： | 210033 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种掩膜板承载装置，在掩膜板托盘的底板上设置网格，所述网格的间距与曝光机落尘检查结果中的网格间距一致。本实用新型在掩膜板托盘的底板增加网格标尺，从透明的掩膜板上方可观察到底板上的网格，使该网格间距与曝光机输出的掩膜板落尘检查结果中的网格保持一致，可根据输出结果中落尘所在的网格坐标对照底板上的网格，直接在掩膜板上找出落尘的位置，改善了传统掩膜板承载装置底板落尘定位困难、清理遗漏及时间过长的问题，快速定位需清理的区域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 承载 装置 | ||
【主权项】：
一种掩膜板承载装置，其特征在于：在掩膜板托盘的底板上设置网格，所述网格的间距与曝光机落尘检查结果中的网格间距一致。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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