[实用新型]一种考虑密勒效应的分布式二堆叠结构的功率放大器有效

专利信息
申请号: 201621159953.3 申请日: 2016-10-24
公开(公告)号: CN206259911U 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 滑育楠;邬海峰;胡柳林;陈依军;廖学介;吕继平;童伟;王测天 申请(专利权)人: 成都嘉纳海威科技有限责任公司
主分类号: H03F1/14 分类号: H03F1/14;H03F3/193;H03F3/21
代理公司: 成都正华专利代理事务所(普通合伙)51229 代理人: 李蕊
地址: 610016 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种考虑密勒效应的分布式二堆叠结构的功率放大器,包括分布式二堆叠HiFET放大网络、偏置电压、考虑密勒效应的栅极人工传输线及考虑密勒效应的漏极人工传输线,本实用新型核心架构采用分布式二堆叠HiFET放大网络,分布式二堆叠HiFET放大网络至少由三个二堆叠HiFET结构组成;同时,本实用新型考虑了二晶体管堆叠结构的密勒效应对于人工传输线的等效电容的影响,大大提高了电路设计的精确性,降低了电路后期调试的难度,使得整个功率放大器获得了良好的宽带功率输出能力和功率增益能力,避免了集成电路工艺的低击穿电压特性,提高电路的稳定性与可靠性。
搜索关键词: 一种 考虑 效应 分布式 堆叠 结构 功率放大器
【主权项】:
一种考虑密勒效应的分布式二堆叠结构的功率放大器,其特征在于,包括分布式二堆叠HiFET放大网络、偏置电压、考虑密勒效应的栅极人工传输线及考虑密勒效应的漏极人工传输线,所述分布式二堆叠HiFET放大网络由k个二堆叠HiFET结构组成,其中k大于等于3;所述二堆叠HiFET结构由两个晶体管按照源极漏极相连堆叠构成,所述二堆叠HiFET结构的最底层的晶体管的源极接地,栅极通过并联的RC稳定电路接到所述考虑密勒效应的栅极人工传输线;所述二堆叠HiFET结构的最上层的晶体管的栅极通过分压电阻连接到所述偏置电压,同时,所述栅极连接由栅极补偿电容连接接地组成的补偿电路,漏极和源极之间并联高频补偿电容,漏极连接到所述考虑密勒效应的漏极人工传输线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都嘉纳海威科技有限责任公司,未经成都嘉纳海威科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621159953.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top