[实用新型]用于真空腔室的密封结构有效

专利信息
申请号: 201621183734.9 申请日: 2016-11-03
公开(公告)号: CN206257272U 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 于永积;宁常军;康玲;王鹏程 申请(专利权)人: 东莞中子科学中心
主分类号: F16J15/06 分类号: F16J15/06;F16J12/00
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司44281 代理人: 郭燕
地址: 523808 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种用于真空腔室的密封结构,包括第一密封件,第一密封件向外凸出形成有第一凸台,第一凸台形成有第一密封面;第二密封件,第二密封件向外凸出形成有第二凸台,第二凸台形成有第二密封面,第二密封面与第一密封面相对,第二凸台自第二密封面内凹形成有定位槽;沿定位槽设置的密封圈;及连接第一密封件与第二密封件的连接件,连接件用于使第一密封面及第二密封面对密封圈进行挤压以形成密封连接。本实用新型所给出的用于真空腔室的密封结构,由于第一密封件及第二密封件分别形成有第一凸台及第二凸台,减少了机械加工量,该密封结构不存在配合要求,加工简单,安装方便,另外,第二密封面内凹形成有定位槽,同时解决了密封圈的定位问题。
搜索关键词: 用于 空腔 密封 结构
【主权项】:
一种用于真空腔室的密封结构,其特征在于,包括:第一密封件,所述第一密封件向外凸出形成有第一凸台,所述第一凸台形成有第一密封面;第二密封件,所述第二密封件向外凸出形成有第二凸台,所述第二凸台形成有第二密封面,所述第二密封面与所述第一密封面相对,所述第二凸台自所述第二密封面内凹形成有定位槽;沿所述定位槽设置的密封圈;及连接所述第一密封件与所述第二密封件的连接件,所述连接件用于使所述第一密封面及所述第二密封面对所述密封圈进行挤压以形成密封连接。
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