[实用新型]可旋转溅射装置和可旋转溅射装置对的布置有效
| 申请号： | 201621194387.X | 申请日： | 2016-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN206467285U | 公开（公告）日： | 2017-09-05 |
| 发明（设计）人： | F·施纳朋伯格;A·洛珀;A·弗洛克;T·德皮施;G·格里施 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型描述了可旋转溅射装置和可旋转溅射装置对的布置。描述了一种用于在基板上沉积材料的可旋转溅射装置。所述可旋转溅射装置包括具有旋转轴的靶材背衬管；磁体组件，所述磁体组件布置在所述靶材背衬管内；冷却通道，所述冷却通道用于提供冷却流体，所述冷却通道布置在所述靶材背衬管内，所述磁体组件布置在所述旋转轴的方向上，并且相对于所述旋转轴偏移，所述冷却通道布置在所述旋转轴的方向上，并且相对于所述旋转轴偏移；连接凸缘，所述连接凸缘用于将冷却流体提供至所述冷却通道，所述连接凸缘与所述旋转轴同轴地布置；以及交叉元件，所述交叉元件与所述连接凸缘接触，其中所述交叉元件将所述连接凸缘与所述冷却通道连接。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 溅射 装置 布置 | ||
【主权项】：
一种可旋转溅射装置(100)，所述可旋转溅射装置包括：靶材背衬管(110)，所述靶材背衬管具有旋转轴(200)；磁体组件，所述磁体组件布置在所述靶材背衬管内；冷却通道(180)，所述冷却通道用于提供冷却流体，所述冷却通道布置在所述靶材背衬管内；所述磁体组件布置在所述旋转轴(200)的方向上，并且相对于所述旋转轴(200)偏移；所述冷却通道布置在所述旋转轴(200)的方向上，并且相对于所述旋转轴(200)偏移；连接凸缘(232)，所述连接凸缘用于将冷却流体提供至所述冷却通道，所述连接凸缘与所述旋转轴同轴地布置；以及交叉元件，所述交叉元件与所述连接凸缘接触，其中所述交叉元件(234)将所述连接凸缘与所述冷却通道连接。
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