[实用新型]一种锆靶材组件及磁控溅射装置

摘要

本实用新型提供了一种锆靶材组件及磁控溅射装置，属于半导体制造领域。该锆靶材组件，包括锆靶材和背板。锆靶材包括一体成型的基底和凸台。基底具有上表面和下表面，背板设有凹槽，凹槽由底面和周面围合而成。基底的下表面焊接于凹槽的底面，基底的上表面设有锯齿状凸起，上表面与背板的靠近凸台的一面位于同一平面。这种锆靶材组件，能够增大反溅射物在锆靶材组件上的附着力，从而极大的减少了反溅射物脱落的情况发生，有效的提高了锆金属薄膜的质量。这种磁控溅射装置包括上述锆靶材组件，使用这种磁控溅射装置，能够有效避免反溅射物的脱落，避免异常放电。

主权项

一种锆靶材组件，其特征在于，包括锆靶材和背板，所述锆靶材包括一体成型的基底和凸台，所述基底具有上表面和下表面，所述背板设有凹槽，所述凹槽由底面和周面围合而成，所述基底的所述下表面焊接于所述凹槽的所述底面，所述基底的所述上表面设有锯齿状凸起，所述上表面与所述背板的靠近所述凸台的一面位于同一平面。