[实用新型]一种DMD结构单轴可移动光路直写曝光机有效

专利信息
申请号: 201621246489.1 申请日: 2016-11-22
公开(公告)号: CN206331235U 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 陈海巍 申请(专利权)人: 无锡影速半导体科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司23211 代理人: 耿晓岳
地址: 214135 江苏省无锡市新吴*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种DMD结构单轴可移动光路直写曝光机,属于直写曝光技术领域。本实用新型的DMD结构单轴可移动光路直写曝光机,主要对真空吸盘结构进行了改进,有效解决了生产小板时由于漏气而造成的吸力不足的问题。进一步地,吸盘上的气孔分布为中间疏、四周密,有效杜绝了板子边缘翘起的问题,节省了气孔数量,减少了成本。本实用新型的DMD结构单轴可移动光路直写曝光机,可生产55英寸的超大板。
搜索关键词: 一种 dmd 结构 单轴可 移动 光路直写 曝光
【主权项】:
一种DMD结构单轴可移动光路直写曝光机,其特征在于,所述DMD结构单轴可移动光路直写曝光机包括支撑结构、DMD结构、DMD结构步进轴、一个运动组件、真空吸盘;运动组件包括一个扫描Y轴和一个升降Z轴;真空吸盘位于运动组件上方;所述真空吸盘包括吸盘主体和真空发生装置;吸盘主体上以行和列的形式分布一定数量的气孔,每一行气孔各对应一个继电器,每一列气孔也各对应一个继电器;每个气孔与真空发生装置之间连接有气孔开关;气孔开关同时与该气孔所在行的继电器和该气孔所在列的继电器连接。
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