[实用新型]一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置有效
| 申请号： | 201621250133.5 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN206192636U | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 刘永安;李林森;盛立志;强鹏飞;刘舵;赵宝升;田进寿;刘哲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型的目的是解决X射线聚焦光学性能精确测量问题，从而提出一种真空环境下测试X射线聚焦光学性能的装置。该装置包括沿光轴依次设置的X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器以及后端的数据处理系统和用于定位调节所述待测X射线聚焦光学的多维调节机构，还包括可见光波段的激光器和相应的半导体探测器；所述X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器和半导体探测器均位于真空管道内，其中，X射线源和激光器位于真空管道的一端，且激光器能够取代X射线源位置用于定位光轴，X射线成像探测器和半导体探测器位于真空管道的另一端。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 聚焦 光学 性能 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，包括沿光轴依次设置的X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器以及后端的数据处理系统和用于定位调节所述待测X射线聚焦光学的多维调节机构，其特征在于：还包括可见光波段的激光器和相应的半导体探测器；所述X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器和半导体探测器均位于真空管道内，其中，X射线源和激光器位于真空管道的一端，且激光器能够取代X射线源位置用于定位光轴，X射线成像探测器和半导体探测器位于真空管道的另一端，通过探测器切换机构选择X射线成像探测器和半导体探测器之一定位于光轴上，以实现利用激光器校正和多维调节机构来保证X射线源、待测X射线聚焦光学和X射线成像探测器的同轴性。
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