[实用新型]测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置有效
| 申请号： | 201621260598.9 | 申请日： | 2016-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN206430966U | 公开（公告）日： | 2017-08-22 |
| 发明（设计）人： | 黄国强;刘帅峰;张卿成 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G01N1/34 | 分类号： | G01N1/34;G01N21/33 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所12201 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置，装置依次设置有氮气供应装置、加热蒸发装置、水解装置、过滤装置、溶解装置和收集装置氮气供应装置中设置有氮气钢瓶和节流阀，加热蒸发装置设置有加热蒸发器和加热套，水解装置设置有水解反应器和锥形气体分布器，过滤装置设置有布氏漏斗和抽滤瓶，溶解装置设置有溶解器和磁力搅拌器，收集装置设置有容量瓶，待处理四氯化硅液经四氯化硅入口进入并有节流阀控制流量。与ICP‑MS方法相比，本实用新型设备简单，仅通过简易装置和紫外分光光度计即可实现四氯化硅中痕量磷杂质的检测，大大缩短送样及预约ICP‑MS等仪器时间，对于高校等研究院所，检测便利性优势明显。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 硅烷 痕量 杂质 含量 样品 预处理 装置 | ||
【主权项】：
一种测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置：其特征是装置依次设置有氮气供应装置、加热蒸发装置、水解装置、过滤装置、溶解装置和收集装置；氮气供应装置中设置有氮气钢瓶和节流阀，加热蒸发装置设置有加热蒸发器和加热套，水解装置设置有水解反应器和锥形气体分布器，过滤装置设置有布氏漏斗和抽滤瓶，溶解装置设置有溶解器和磁力搅拌器，收集装置设置有容量瓶。
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