[实用新型]一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置有效

专利信息
申请号: 201621261615.0 申请日: 2016-11-23
公开(公告)号: CN206216510U 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 陈从贺 申请(专利权)人: 福州恒光光电有限公司
主分类号: B24B57/00 分类号: B24B57/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350000 福建省福州市开发区M951*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开了一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置,包括一个抛光液混合容器,抛光液混合容器倾斜置于旋转驱动装置上,旋转驱动装置中设有三个能够支撑驱动所述抛光液混合容器的驱动辊轮,抛光液混合容器的底部设有抛光液出口,抛光液出口处设有一次过滤网片,抛光液出口连接精密过滤装置,精密过滤装置中设有两层过滤介质,两层过滤介质之间设有过渡腔体,过渡腔体的侧壁上连接有杂质收集槽,精密过滤装置的出口连接抛光液供给装置和过滤介质吹气反清洗接口,过滤介质吹气反清洗接口连接有清洁压缩气源;本实用新型过滤后的抛光液中的杂质大大降低,能够定期对过滤介质进行吹气清洁,使过滤介质能够长时间使用,过滤除杂效果稳定可靠。
搜索关键词: 一种 光学 晶体 研磨 抛光 处理 装置
【主权项】:
一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置,其特征在于:包括一个抛光液混合容器,所述抛光液混合容器的内部侧壁上设有便于混合抛光液的叶片,所述抛光液混合容器倾斜置于一个旋转驱动装置上,所述旋转驱动装置中设有三个能够支撑驱动所述抛光液混合容器的驱动辊轮,其中设于最低端的所述驱动辊轮连接有驱动电机,所述抛光液混合容器的底部设有一个抛光液出口,所述抛光液混合容器内部靠近所述抛光液出口处设有一次过滤网片,所述一次过滤网片上设有便于更换的过滤布,所述抛光液出口连接一个精密过滤装置,所述精密过滤装置中设有两层过滤介质,两层所述过滤介质之间设有一个过渡腔体,所述过渡腔体的侧壁上连接有一个杂质收集槽,所述精密过滤装置的出口连接抛光液供给装置,所述精密过滤装置的出口还设有一个过滤介质吹气反清洗接口,所述过滤介质吹气反清洗接口连接有清洁压缩气源。
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