[实用新型]光刻机环境监测系统及其远程监控系统有效

专利信息
申请号: 201621282435.0 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN206292531U 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 付印凯 申请(专利权)人: 天津津芯微电子科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 马维丽
地址: 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路1*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型提供了一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统,属于光刻机技术领域。本实用新型公开的一种光刻机环境监测系统,包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块,以及信号采集模块、显示模块和环境模块,其中,光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别环境模块相连接,环境模块与信号采集模块相连接,信号采集模块与显示模块相连接。通过环境模块直接采集存储的各模块的环境参数,由信号采集模块处理环境参数,显示在显示模块上,是用户可以直观的监测设备的运行状态,实现实时动态的监测光刻机各部件的运行状态,保证设备的运行和及时维修。
搜索关键词: 光刻 环境监测 系统 及其 远程 监控
【主权项】:
一种光刻机环境监测系统,其特征在于,包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块,还包括:信号采集模块、显示模块和环境模块,其中,所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与所述环境模块相连接,所述环境模块与所述信号采集模块相连接,所述信号采集模块与所述显示模块相连接。
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