[实用新型]光刻机环境监测系统及其远程监控系统有效
申请号: | 201621282435.0 | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN206292531U | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 付印凯 | 申请(专利权)人: | 天津津芯微电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人: | 马维丽 |
地址: | 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路1*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统,属于光刻机技术领域。本实用新型公开的一种光刻机环境监测系统,包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块,以及信号采集模块、显示模块和环境模块,其中,光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别环境模块相连接,环境模块与信号采集模块相连接,信号采集模块与显示模块相连接。通过环境模块直接采集存储的各模块的环境参数,由信号采集模块处理环境参数,显示在显示模块上,是用户可以直观的监测设备的运行状态,实现实时动态的监测光刻机各部件的运行状态,保证设备的运行和及时维修。 | ||
搜索关键词: | 光刻 环境监测 系统 及其 远程 监控 | ||
【主权项】:
一种光刻机环境监测系统,其特征在于,包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块,还包括:信号采集模块、显示模块和环境模块,其中,所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与所述环境模块相连接,所述环境模块与所述信号采集模块相连接,所述信号采集模块与所述显示模块相连接。
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