[实用新型]一种光刻机的硅片转移装置有效

专利信息
申请号: 201621289611.3 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN206193436U 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 丁桃宝;刘敏洁 申请(专利权)人: 张家港晋宇达电子科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙)11531 代理人: 李宏伟
地址: 215600 江苏省苏州市张家港市经*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种光刻机的硅片转移装置,包括机架,机架上安装有第一转移架和第二转移架,第一转移架和第二转移架均与同一个水平动力装置传动连接,第一转移架包括第一滑板,第一滑板的底部安装有水平设置的第一转移框,第一转移框上设置有避让校正机构的避让口,第一转移框上设置有与抽气系统连通的吸气孔,机架上设置有校正对射式传感器的发射端,该校正对射式传感器的发射端位置与校正工位位置对应,对应的第一滑板以及第二转移架上的第二滑板上均设置有校正对射式传感器的接收端,机架上还设置有光刻定位装置。该硅片转移装置利用两个错位的转移架配合交替使用,极大的提高了硅片转移的效率,提高了光刻效率。
搜索关键词: 一种 光刻 硅片 转移 装置
【主权项】:
一种光刻机的硅片转移装置,包括机架,其特征在于:所述机架上设置有成直线排列的等待工位、校正工位和光刻工位,所述机架上水平滑动安装有错位设置的第一转移架和第二转移架,所述第一转移架和第二转移架的滑动方向与校正工位和光刻工位的连线平行,所述第一转移架和第二转移架均与同一个水平动力装置传动连接,该第一转移架和第二转移架的运动状态相反;所述第一转移架处于光刻工位时,第二转移架处于校正工位一侧的等待工位;所述第一转移架和第二转移架的结构相同,所述第一转移架包括第一滑板,所述第一滑板滑动安装于机架上,所述第一滑板的底部安装有水平设置的第一转移框,所述第一转移框上设置有避让校正机构的避让口,所述第一转移框上设置有与抽气系统连通的吸气孔,所述机架上设置有校正对射式传感器的发射端,该校正对射式传感器的发射端位置与校正工位位置对应,对应的所述第一滑板以及第二转移架上的第二滑板上均设置有校正对射式传感器的接收端,所述机架上还设置有对第一转移架或第二转移架定位于光刻工位的光刻定位装置。
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