[实用新型]一种半导体闭管扩散用真空设备有效
申请号: | 201621294337.9 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN206363988U | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 胡艳;岳爱文;钟行;刘科 | 申请(专利权)人: | 武汉光迅科技股份有限公司;武汉电信器件有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01J37/16 |
代理公司: | 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙)44341 | 代理人: | 何婷 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体闭管扩散技术领域,尤其涉及一种半导体闭管扩散用真空设备。所述真空设备包括工位接口、放气阀、第一电阻规、旁抽阀、主抽阀、电离规、分子泵、第二电阻规、前级阀和机械泵,所述工位接口通过旁路连接所述机械泵;所述工位接口还通过主路串联所述分子泵后连接到所述机械泵;位于所述旁路上,在所述工位接口与所述机械泵之间串联有所述放气阀、所述第一电阻规、所述旁抽阀;位于所述主路上,在所述工位接口与所述机械泵之间串联有所述主抽阀、所述电离规、所述分子泵、所述第二电阻规和所述前级阀。本实用新型通过提出一种有机械泵和分子泵组成的两级真空设备,分子泵可以快速启动,不含油气,可以提高效率,避免污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 扩散 真空设备 | ||
【主权项】:
一种半导体闭管扩散用真空设备,其特征在于,所述真空设备包括:工位接口(1)、放气阀(2)、第一电阻规(3)、旁抽阀(4)、主抽阀(5)、电离规(6)、分子泵(7)、第二电阻规(8)、前级阀(9)和机械泵(10),所述工位接口(1)通过旁路连接所述机械泵(10);所述工位接口(1)还通过主路串联所述分子泵(7)后连接到所述机械泵(10);位于所述旁路上,在所述工位接口(1)与所述机械泵(10)之间串联有所述放气阀(2)、所述第一电阻规(3)、所述旁抽阀(4);位于所述主路上,在所述工位接口(1)与所述机械泵(10)之间串联有所述主抽阀(5)、所述电离规(6)、所述分子泵(7)、所述第二电阻规(8)和所述前级阀(9)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造