[实用新型]一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置

摘要

本实用涉及一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其包括密闭的功能腔，功能腔内设置有温度可调节的加热器，加热器具有用于放置晶圆并对其进行加热的加热平台，功能腔位于加热平台上方的内腔壁上设置有可拆卸的铝制挡板，功能腔的下部设置有进气管，功能腔的上部设置有抽气管，抽气管通过管道与真空泵连通。本实用新型的有益效果是其专用于对晶圆铜膜层上氧化铜进行氨气处理，设置可拆卸的铝制挡板，其价格便宜，更换不会使成本较大增加；功能腔的上部连通有真空泵，铝挡板溅射形成的化合物可被真空泵抽走，不会污染下方的晶圆；同时，该装置也可用于铜膜层上hillock处理时的CVD退火处理，退火过程中有氮气保护，可保证晶圆不受损。

主权项

一种用于晶圆铜膜CVD退火及氧化物还原的装置，其特征在于，包括密闭的功能腔(1)，所述功能腔(1)内设置有温度可调节的加热器(2)，所述加热器(2)具有用于放置晶圆并对其进行加热的加热平台，所述功能腔(1)位于加热平台上方的内腔壁上设置有可拆卸的铝制挡板(3)，所述功能腔(1)的下部设置有用于向其内通入气体的进气管(5)，所述功能腔(1)的上部连通设置有抽气管(4)，所述抽气管(4)通过管道与真空泵(6)连通。