[实用新型]一种双室磁控蒸发真空设备

摘要

本实用新型提供一种双室磁控蒸发真空设备，涉及一种镀膜设备技术领域。该实用新型包括真空室、蒸发室和磁控室，蒸发室设置在真空室内左侧，磁控室设置在真空室内右侧，蒸发室和磁控室之间通过传递机构连接，传递机构包括传递轨道、磁力短轴和传递小车，传递小车设置在传递轨道上，传递轨道上端设置有磁力短轴，磁力短轴包括第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴，第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴成并列结构设置。本实用新型在性能有了很大改善，不仅镀膜质量得到了提高，其结构更加合理、操作更加便利，并且成本低廉、使用维护方便的同时也大大减少了占地面积。

主权项

一种双室磁控蒸发真空设备，其特征在于，包括真空室、蒸发室和磁控室，所述蒸发室设置在所述真空室内左侧，所述磁控室设置在所述真空室内右侧，所述蒸发室和所述磁控室之间通过传递机构连接，所述传递机构包括传递轨道、磁力短轴和传递小车，所述传递小车设置在所述传递轨道上，所述传递轨道上端设置有所述磁力短轴，所述磁力短轴包括第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴，所述第一磁力短轴、所述第二磁力短轴、所述第三磁力短轴、所述第四磁力短轴和所述第五磁力短轴成并列结构设置。