[实用新型]一种板式PECVD镀膜异常的补救装置

摘要

本实用新型提供了一种板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，包括底部固定板，底部固定板连接至少一个合页，每个合页连接一个石墨片。本实用新型的板式PECVD镀膜异常的补救装置，对应若干石墨薄片对于等离子体发射源的阻挡作用，通过翻转不同位置合页上安装的石墨薄片使绝大部分的离子经过扩散过程再进行PECVD反应，统一地消除了离子初始能量的不均匀，从而调节了硅片在制品的镀膜工艺，避免硅片在制品规则性的异常不良出现。本实用新型可以低成本、便捷、有效地补救PECVD生产过程中的薄膜不均匀，缓冲因等离子体发射源局部功率的不均匀引发的镀膜工艺后的硅片在制品规则性的异常。

主权项

一种板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，包括底部固定板(1)，底部固定板(1)连接至少一个合页(2)，每个合页(2)连接一个石墨片(3)。