[实用新型]砷磷化铝镓铟发光二极管有效

专利信息
申请号: 201621414656.9 申请日: 2016-12-22
公开(公告)号: CN206271744U 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 丁国建;刘佩;陈宇;张业民;罗惠英 申请(专利权)人: 天津中环新光科技有限公司
主分类号: H01L33/10 分类号: H01L33/10;H01L33/26;H01L33/14;H01L33/06
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司12203 代理人: 高凤荣
地址: 300385 天津市西*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种砷磷化铝镓铟发光二极管,设有砷化镓(GaAs)衬底,砷化镓(GaAs)衬底上设有超晶格分布布拉格反射层(DBR),分布布拉格反射层(DBR)上设有n型限制层,n型限制层上设有构成发光二极管的核心发光区域的多量子阱有源层,多量子阱有源层上设有p型限制层,p型限制层上设有p型磷化镓(GaP)窗口层,其中,分布布拉格反射层(DBR)是由砷化铝(AlAs)和多层砷化镓、砷化铝(GaAs/AlAs)m超晶格结构组成的[AlAs/(GaAs/AlAs)m]n周期性结构。通过上述层结构的相互连接构成一发光二极管结构。本实用新型不仅大幅降低分布布拉格反射层的串电阻,改善了反射光谱的特性;而且,还改善了发光二极管的工作电压,增加了光提取效率,提高了发光二极管的亮度和稳定性。
搜索关键词: 磷化 铝镓铟 发光二极管
【主权项】:
一种砷磷化铝镓铟发光二极管,其特征在于:设有:砷化镓(GaAs)衬底,砷化镓(GaAs)衬底上设有超晶格分布布拉格反射层(DBR),分布布拉格反射层(DBR)上设有n型限制层,n型限制层上设有构成发光二极管的核心发光区域的多量子阱有源层,多量子阱有源层上设有p型限制层,p型限制层上设有p型磷化镓(GaP)窗口层,其中,分布布拉格反射层(DBR)为由砷化铝(AlAs)和多层砷化镓、砷化铝(GaAs/AlAs)m超晶格结构组成的[AlAs/(GaAs/AlAs)m]n周期性结构;通过上述层结构的相互连接构成一发光二极管结构。
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