[实用新型]一种图形化蓝宝石衬底的酸碱清洗装置有效
申请号: | 201621417113.2 | 申请日: | 2016-12-22 |
公开(公告)号: | CN206250163U | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 侯想;仇凯弘 | 申请(专利权)人: | 福建中晶科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 364000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种图形化蓝宝石衬底的酸碱清洗装置,包括壳体,所述壳体为空腔结构,壳体的顶端设有进料口,所述进料口的一侧内壁铰接有顶盖,所述壳体的顶端内壁上安装有引料架,所述壳体的底端内壁滑动连接有支撑板,所述支撑板的顶端通过定位销安装有清洗座,所述清洗座上设有第一通孔,所述清洗座的顶端分别设有弧形的放置槽和挡板,所述清洗座的一侧开设有滑槽,所述支撑板靠近清洗座的一侧设有凹槽,所述凹槽内设有导流板,所述导流板上设有第二通孔,所述支撑板的底端和壳体的底端均设有相互连通的出料口,所述壳体内还设有滑动杆。本实用新型设计布局合理,减轻对蓝宝石衬底的损伤,清洁效果显著,同时有效提高清洗质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 图形 蓝宝石 衬底 酸碱 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种图形化蓝宝石衬底的酸碱清洗装置,包括壳体(1),其特征在于,所述壳体(1)为空腔结构,壳体(1)的顶端设有进料口(7),所述进料口(7)的一侧内壁铰接有顶盖(8),所述壳体(1)的顶端内壁上安装有引料架(9),所述壳体(1)的底端内壁滑动连接有支撑板(4),所述支撑板(4)的顶端通过定位销安装有清洗座(3),所述清洗座(3)上设有多个第一通孔(11),所述清洗座(3)的顶端分别设有弧形的放置槽和竖直设置的挡板(2),所述放置槽位于挡板(2)之间,所述清洗座(3)的一侧开设有竖直设置的滑槽(12),所述支撑板(4)靠近清洗座(3)的一侧设有凹槽(5),所述凹槽(5)内设有水平设置的导流板(13),所述导流板(13)上设有多个第二通孔(14),且第二通孔(14)与第一通孔(11)相配合,所述支撑板(4)的底端和壳体(1)的底端均设有相互连通的出料口(15),所述出料口(15)分别与第一通孔(11)和第二通孔(14)相对应,所述壳体(1)内还设有竖直设置的滑动杆(10),其中滑动杆(10)的一端延伸至壳体(1)的上方,滑动杆(10)的另一端通过滑槽(12)与导流板(13)固定连接,所述壳体(1)的底端两侧均设有竖直设置的支撑杆(6),所述支撑杆(6)之间设有水平设置的固定板(16),所述固定板(16)的底端安装有支撑架(18),所述支撑架(18)上设有转动电机(19),所述转动电机(19)的输出轴上连接有竖直设置的转动杆(17),且转动杆(17)与支撑板(4)固定连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造