[实用新型]一种改进的半导体制冷器有效
申请号: | 201621424649.7 | 申请日: | 2016-12-23 |
公开(公告)号: | CN206387140U | 公开(公告)日: | 2017-08-08 |
发明(设计)人: | 梁永诒 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区奥达信电器有限公司 |
主分类号: | F25B21/02 | 分类号: | F25B21/02 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 刘孟斌 |
地址: | 528300 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开一种改进的半导体制冷器,包括半导体制冷片,半导体制冷片由上基板和下基板,以及阵列设置在上基板和下基板之间的多组P‑N结半导体组成,所述上基板和下基板的边缘处按设置有密封环绕层,上基板和下基板之间的密封环绕层内设置有真空绝缘区域,多组P‑N结半导体设置在真空绝缘区域内,增加真空绝缘区域能减少半导体制冷片的上基板和下基板通过空气互相传递热量,使制冷片的导热更加稳定,使半导体制冷片冷热端的温度差更大,提高半导体制冷片的制冷效果和制冷速度。 | ||
搜索关键词: | 一种 改进 半导体 制冷 | ||
【主权项】:
一种改进的半导体制冷器,包括半导体制冷片(1),半导体制冷片(1)由上基板(101)和下基板(102),以及阵列设置在上基板(101)和下基板(102)之间的多组P‑N结半导体(103)组成,其特征在于:所述上基板(101)和下基板(102)的边缘处按设置有密封环绕层(2),上基板(101)和下基板(102)之间的密封环绕层(2)内设置有真空绝缘区域(3),多组P‑N结半导体(103)设置在真空绝缘区域(3)内。
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