[实用新型]提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置

摘要

本实用新型提供了提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，包括一容纳有恒温水的恒温槽及设置于恒温槽内的传输滚轮，所述传输滚轮置于所述恒温水下，待刻蚀硅片置于所述传输滚轮上，所述传输滚轮转动，带动所述待刻蚀硅片运动，所述装置还包括一与所述恒温槽的出口端联通的恒温风干机构。本实用新型的有益效果体现在将需要刻蚀的多晶硅片预先保持在温度为8‑10℃，与刻蚀槽温度相当，可以大大提高多晶硅片绒面的片内均匀性与片间均匀性，降低电池片的色差片比例，提高电池片的合格率。

主权项

提高多晶硅片刻蚀绒面均匀性的预处理装置，其特征在于：包括一容纳有恒温水的恒温槽及设置于恒温槽内的传输滚轮，所述传输滚轮置于所述恒温水下，待刻蚀硅片置于所述传输滚轮上，所述传输滚轮转动，带动所述待刻蚀硅片运动，所述装置还包括一与所述恒温槽的出口端联通的恒温风干机构。