[实用新型]一种半导体激光器有效
申请号: | 201621474905.3 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN206313285U | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 周坤;唐淳;高松信;马毅;仁怀瑾;李弋;杜维川;杨小波;谭昊;孟慧成;彭珏;康俊杰 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院应用电子学研究所 |
主分类号: | H01S5/125 | 分类号: | H01S5/125 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司51214 | 代理人: | 沈强 |
地址: | 621000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种半导体激光器,该方案包括有从下至上依次设置的n型衬底、n型第一下光学限制层、n型第一波导层、n型第二下光学限制层、n型第二下波导层、多量子阱有源区、p型第二上波导层、p型第二上光学限制层和p型接触层;该方案在低光损耗的n型部分设置一个非对称的厚波导,并在激光器芯片后腔面蒸镀高反膜,前腔面蒸镀抗反射膜,然后在出光前腔面的第二波导处刻蚀形成布拉格反射镜,利用包含多量子阱有源区的第二波导与第一波导的耦合,实现第一波导处的出射光斑的圆对称分布。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体激光器 | ||
【主权项】:
一种半导体激光器,其特征是:包括有从下至上依次设置的n型衬底、n型第一下光学限制层、n型第一波导层、n型第二下光学限制层、n型第二下波导层、多量子阱有源区、p型第二上波导层、p型第二上光学限制层和p型接触层;所述n型第一波导层的平面尺寸大于n型第二波导层的平面尺寸;所述n型衬底、n型第一下光学限制层和n型第一波导层的平面尺寸相同;所述n型第二下波导层、多量子阱有源区、p型第二上波导层、p型第二上光学限制层和p型接触层的平面尺寸相同;所述n型第二下光学限制层下端面的平面尺寸与n型第一波导层的平面尺寸相同;所述n型第二下光学限制层上端面的平面尺寸与n型第二下波导层的平面尺寸相同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院应用电子学研究所,未经中国工程物理研究院应用电子学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621474905.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种组合牙膏套装
- 下一篇:用于FINFET的源极和漏极工艺