[实用新型]一种窄垂直方向远场发散角的激光器有效
申请号: | 201621488960.8 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN206774873U | 公开(公告)日: | 2017-12-19 |
发明(设计)人: | 单智发 | 申请(专利权)人: | 苏州全磊光电有限公司 |
主分类号: | H01S5/20 | 分类号: | H01S5/20;H01S5/22;H01S5/343 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)32251 | 代理人: | 刘计成 |
地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种窄垂直方向远场发散角的激光器,该激光器的外延结构包括InP衬底,在InP衬底上由下向上依次沉积有缓冲层、N型外限制层、N型内限制层、非掺杂的折射率渐变的波导层、量子阱有源区、非掺杂的折射率渐变的波导层、P型内限制层、P型外限制层、腐蚀阻挡层、P型包层、P型势垒渐变层、P型势垒激变层、P形欧姆接触层,量子阱有源区量子阱对数不小于6对;量子阱为应变的量子阱结构,阱为压应变,垒为张应变;量子阱结构垒的厚度不小于10nm;N型内限制层为张应变结构层,N型内限制层采用AlInAs材料。该激光器可降低半导体激光器的垂直方向的远场发散角,提高激光器与光纤的耦合效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 垂直 方向 发散 激光器 | ||
【主权项】:
一种窄垂直方向远场发散角的激光器,其特征在于,该激光器的外延结构包括InP衬底(1),在所述InP衬底(1)上由下向上依次沉积有缓冲层(2)、N型外限制层(3)、N型内限制层(4)、第一非掺杂的折射率渐变的波导层(5)、量子阱有源区(6)、第二非掺杂的折射率渐变的波导层(7)、P型内限制层(8)、P型外限制层(9)、腐蚀阻挡层(10)、P型包层(11)、P型势垒渐变层(12)、P型势垒激变层(13)、P形欧姆接触层(14),所述的量子阱有源区(6)为应变量子阱结构;所述的N型内限制层(4)为张应变结构层,所述N型内限制层(4)采用AlInAs材料。
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