[实用新型]防紊流降垢结构及光学液体浓度测试装置有效

专利信息
申请号: 201621492716.9 申请日: 2016-12-31
公开(公告)号: CN206583790U 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 深圳市盛泽森科技有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518125 广东省深圳市宝安区沙井*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种防紊流降垢结构及光学液体浓度测试装置。其中防紊流降垢结构包括外环柱、内环柱、顶盖、入射面、反射面、出射面;方案还公开一种包括上述紊流防护装置以及降垢装置的光学液体浓度测试装置。本方案通过提供一个相对静态的环境,可以尽最大可能减少、疏导和释放被测溶液中的气泡,提高测试可靠性。另一方面光学液体浓度传感器装置光学部件的降垢结构,对于传感器因为长期使用、杂质沉淀、静电作用造成的出射面和入射面污垢实施引导,尽量延迟出射面和入射面的有效面积部分污垢的沉积,从而避免光晕形成,提高传感器探测精度。另外,本方案通过提供一种光学液体浓度测试装置,有效保护传感器主体,延长寿命,同时提高精度。
搜索关键词: 紊流 结构 光学 液体 浓度 测试 装置
【主权项】:
一种防紊流降垢结构,其特征在于:包括外环柱、内环柱和顶盖,所述顶盖连接外环柱与内环柱;所述外环柱在接近顶盖处开设有进液口;所述外环柱在底部设计有为了安装光学部件的环状平台。
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