[发明专利]溅射靶在审

专利信息
申请号: 201680002410.7 申请日: 2016-05-13
公开(公告)号: CN107075668A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 杨兴波;德扬·斯托亚科维奇;马修·J·科梅尔茨;阿瑟·V·特斯塔尼罗 申请(专利权)人: 美题隆公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;B22D27/04
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 王静,张珂珂
地址: 美国俄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了用于制造高纯度(>99.99%)低氧(<40ppm)溅射靶的方法,该溅射靶包含Co、CoFe、CoNi、CoMn、CoFeX(X=B、C、Al)、Fe、FeNi或Ni的合金,并且具有由硼金属间化合物构成的柱状微观组织。所述溅射靶通过以下方法制造,定向铸造所述金属合金的熔融混合物,退火以去除残余应力,切割并任选进行退火及精整,以获得所述溅射靶。
搜索关键词: 溅射
【主权项】:
一种用于制造溅射靶的方法,包括:形成熔融合金混合物,其中所述熔融合金混合物包含(i)含有Co、Fe或B中的至少一者作为主要组分的组合物,或(ii)包含Fe和Ni中的至少一者和Co的组合物,或(iii)具有式CoFeX的组合物,其中X为B、C或Al中的一者;将所述熔融混合物浇注于模具中以形成定向铸锭;将所述铸锭退火;和切割所述铸锭以形成所述溅射靶;其中所述溅射靶的纯度大于99.99%,并且具有40ppm以下的低氧含量,并且具有由硼化物构成的柱状微观组织。
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