[发明专利]用于胶版印刷的铅版的制造方法以及用于胶版印刷的铅版有效
申请号: | 201680004462.8 | 申请日: | 2016-08-26 |
公开(公告)号: | CN107107603B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 孙镛久;李承宪 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | B41C1/10 | 分类号: | B41C1/10;G03F1/00;H01L21/027 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 李琳;许向彤 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种用于胶版印刷的铅版的制造方法,以及一种使用该方法制造的用于胶版印刷的铅版。所述用于胶版印刷的铅版的制造方法包括以下步骤:在基板上形成遮光掩模图案;在上面形成有遮光掩模图案的基板上形成负性光致抗蚀剂层;通过向基板施加光来使负性光致抗蚀剂层曝光;以及通过使曝光后的负性光致抗蚀剂层经受显影来形成具有突出凸雕部分和显影凹槽图案的负性光致抗蚀剂图案层,其中负性光致抗蚀剂层的平均厚度为3μm以上,负性光致抗蚀剂图案层具有线宽不同的至少两种凹槽图案,并且所述至少两种凹槽图案之间的线宽差为10μm以上且所述至少两种凹槽图案彼此连接。 | ||
搜索关键词: | 用于 胶版印刷 铅版 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种用于胶版印刷的铅版的制造方法,包括以下步骤:在基板上形成遮光掩模图案;在设置有所述遮光掩模图案的所述基板上形成负性光致抗蚀剂层;通过向基板侧照射光来使所述负性光致抗蚀剂层曝光;以及通过使曝光后的负性光致抗蚀剂层显影来形成具有突出凸雕部分和显影凹槽图案的负性光致抗蚀剂图案层,其中,所述负性光致抗蚀剂层的平均厚度为3μm以上,所述负性光致抗蚀剂图案层具有至少两个线宽不同的凹槽图案,至少两个凹槽图案之间的线宽差为10μm以上,并且线宽差为10μm以上的至少两个凹槽图案彼此连接。
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