[发明专利]在抗蚀剂应用中作为光酸生成剂的磺酸衍生化合物有效
申请号: | 201680005698.3 | 申请日: | 2016-02-11 |
公开(公告)号: | CN107108511B | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 张永强;D·格林;R·B·夏尔马 | 申请(专利权)人: | 贺利氏贵金属北美代顿有限责任公司 |
主分类号: | C07D221/14 | 分类号: | C07D221/14;C08K5/42;G03F7/025;G03F7/027 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘媛媛 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供新颖光酸生成剂化合物。还提供包括所述新颖光酸生成剂化合物的光阻剂组合物。本发明进一步提供制造和使用本文所揭示的所述光酸生成剂化合物和光阻剂组合物的方法。所述化合物和组合物适用作用于各种微制造应用的化学增幅型抗蚀剂组合物中的光敏性组分。 | ||
搜索关键词: | 抗蚀剂 应用 作为 生成 衍生 化合物 | ||
【主权项】:
一种磺酸衍生化合物,其由式(I)或式(II)表示:其中R0选自由以下组成的群组氢原子,具有1到18的碳数的脂族基,其中一个或多个氢原子可经卤素原子取代,具有2到18的碳数的脂族基,其包含至少一个选自由以下组成的群组的部分:‑O‑、‑S‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑S‑、‑O‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑NH‑、‑O‑C(=O)‑NH‑、‑C(=O)‑NRa‑、‑O‑C(=O)‑NRa‑和‑C(=O)‑NRaRb,其中Ra和Rb各自独立地为具有1到10的碳数的脂族基,其可相同或不同并且可连接形成脂环基,并且其中所述脂族基任选地包含至少一个卤素原子;并且R选自由以下组成的群组‑CH3、‑CH2F、‑CHF2或‑CF3,具有2到18的碳数的脂族基,其可经一个或多个卤素原子取代,具有2到18的碳数的脂族基,其包含至少一个选自由以下组成的群组的部分:‑O‑、‑S‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑S‑、‑O‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑NH‑、‑O‑C(=O)‑NH‑、‑C(=O)‑NRa‑、‑O‑C(=O)‑NRa‑和‑C(=O)‑NRaRb,其中Ra和Rb如上文所定义,其中所述脂族基任选地包含至少一个卤素原子,具有4到18的碳数的芳基或杂芳基,其中一个或多个氢原子可经卤素原子、脂族基、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷氨基、酰氧基、酰硫基、酰氨基、烷氧羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、脂环基、杂环基、芳基、烷芳基、氰基或硝基取代;和具有4到18的碳数的芳烷基或杂芳烷基,其中所述芳基或杂芳基中的一个或多个氢原子可经卤素原子、脂族基、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷氨基、酰氧基、酰硫基、酰氨基、烷氧羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、脂环基、杂环基、芳基、烷芳基、氰基或硝基取代,其限制条件为,如果R为‑CF3,那么R0选自由以下组成的群组氢原子;具有2到18的碳数的脂族基,其包含至少一个选自由以下组成的群组的部分:‑O‑、‑S‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑S‑、‑O‑C(=O)‑O‑、‑C(=O)‑NH‑、‑O‑C(=O)‑NH‑、‑C(=O)‑NRa‑、‑O‑C(=O)‑NRa‑和‑C(=O)‑NRaRb,其中Ra和Rb如上文所定义,其中所述脂族基任选地包含至少一个卤素原子;‑CH2CH(CH3)2、‑CH2CH=CHCH3或‑CH2CH2CH=CH2,由式(A)表示的基团:‑CH2‑R11 (A),其中R11选自由具有4到18的碳数的脂族基组成的群组,环丙烯基,和由式(B)表示的基团:其中R21选自由氢原子或具有1到10的碳数的烷基组成的群组;并且n等于1到5。
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