[发明专利]多层体及其制备方法

摘要

本发明涉及用于制造多层体的方法，所述方法包括以下步骤：a)提供具有复制层的基材膜；b)模塑表面凹凸到复制层的表面中，所述表面凹凸具有以三维自由形态表面的形式向观察者显现的外观，特别是，所述表面凹凸由产生放大、缩小、或变形效果的类透镜设计的结构制成；c)将第一金属层施加到形成表面凹凸的复制层表面上；d)将至少部分透明的间隔层以湿化学方式施加到金属层上；e)将第二金属层施加到间隔层上。本发明还涉及以该方式生产的多层体。

主权项

1.一种用于制造多层体的方法，所述方法包括以下步骤：/na)提供具有复制层的基材膜；/nb)模塑以三维自由形态表面的形式向观察者显现的表面凹凸到所述复制层的表面中，所述表面凹凸通过具有产生放大、缩小、或变形效果的类透镜设计的结构形成；/nc)将第一金属层施加到形成表面凹凸的复制层表面上；/nd)将至少部分透明的间隔层以湿化学方式施加到所述第一金属层上；/ne)将第二金属层施加到所述间隔层上，/n其中，两层金属层中的至少一层以半透明的形式形成，/n其中，所述间隔层背向复制层的表面中形成进一步的表面凹凸，其中表面凹凸和进一步的表面凹凸至少部分相关联，/n或者/na)提供具有复制层的基材膜；/nb)模塑以三维自由形态表面的形式向观察者显现的表面凹凸到复制层的表面中，所述表面凹凸通过具有产生放大、缩小、或变形效果的类透镜设计的结构形成；/nc)将高折射率第一介电层施加到形成表面凹凸的复制层表面上；/nd)将至少部分透明的间隔层以湿化学方式施加到所述第一介电层上；/ne)将高折射率第二介电层施加到所述间隔层上，/n其中，所述间隔层的折射率低于所述高折射率第一介电层和所述高折射率第二介电层，/n其中，所述间隔层背向复制层的表面中形成进一步的表面凹凸，其中表面凹凸和进一步的表面凹凸至少部分相关联。/n