[发明专利]基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法有效

专利信息
申请号: 201680006570.9 申请日: 2016-02-26
公开(公告)号: CN107209461B 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 铃木智也;奈良圭;加藤正纪;渡辺智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;小宫山弘树 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 郭晓宇;汤在彦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种基板处理装置,具备:旋转圆筒DR,以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置11,具有多个描绘模块UW1~UW5,将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上,以通过多个描绘模块UW1~UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式,将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔;调整机构24,调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜;以及旋转位置检测机构,检测出基板P的搬送速度;根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度,通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
搜索关键词: 处理 装置 元件 制造 系统 方法
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其具备:基板搬送机构,一边支承既定宽度的基板、一边将其以既定速度往与前述基板宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置,其为了将既定图案描绘于前述基板上,通过调变器将相应于前述图案调变强度后的描绘光束的点光投射于前述基板,并且沿着以扫描器与远心f‑θ透镜将前述描绘光束于较前述基板的宽度窄的范围一维地扫描于前述宽度方向而得到的前述点光的描绘线描绘前述图案的描绘模块于前述宽度方向配置多个,以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的图案彼此在前述基板宽度方向相接合的方式,将排列于前述宽度方向的多个前述描绘线中的第奇数个与第偶数个于前述搬送方向相隔既定间隔配置,并且自前述宽度方向观察时,将前述多个描绘模块的第奇数个与第偶数个相对于前述间隔的在前述搬送方向的中心对称配置;基板速度检测装置,检测出前述基板的搬送速度的变化;以及控制装置,以前述多个描绘模块中以在前述基板宽度方向彼此相邻的第奇数个与第偶数个的一方前述描绘模块所形成的前述描绘线的端部所描绘的图案,与以第奇数个与第偶数个的另一方前述描绘模块所形成的前述描绘线的端部所描绘的图案在前述搬送方向或前述宽度方向相接合的方式,依据以前述基板速度检测装置检测出的前述搬送速度的变化控制前述描绘模块的各个的描绘时点。
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