[发明专利]透镜装置和图像投影装置有效

专利信息
申请号: 201680007052.9 申请日: 2016-01-27
公开(公告)号: CN107209344B 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 田中纯一 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B7/08 分类号: G02B7/08;G02B13/16;G03B21/00;G03B21/14
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 宋岩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供了能够响应于图像表面曲率的变化以简单的方式自动调整变焦或聚焦的透镜设备和图像投影设备。本发明具有:第一光学单元,其通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统中的图像表面曲率的量;第二光学单元,其通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统的投影倍率或焦点位置;检测第一光学单元的位置的传感器;存储由于第一光学单元的移位引起的投影光学系统的投影倍率或焦点位置的改变有关的该百年信息;以及控制单元,其基于由传感器检测到的第一光学单元的位置和存储存储器中的改变信息,使第二光学单元移位,以便减小伴随着第一光学单元的移位的、所述投影光学系统的投影倍率或焦点位置的改变。
搜索关键词: 透镜 装置 图像 投影
【主权项】:
1.一种透镜装置,包括:第一光学单元,被配置成通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统的像场弯曲量;第二光学单元,包括被配置成在对焦期间移动的对焦调整单元和被配置成在变焦期间移动的变焦调整单元,所述第二光学单元被配置成通过在投影光学系统的光轴方向上移位来改变投影光学系统的投影倍率和对焦位置;第一检测单元,用于检测第一光学单元的位置;存储器,被配置成存储关于通过第一光学单元的移位的投影光学系统的投影倍率和对焦位置的改变的改变信息;和控制单元,被配置成控制第二光学单元以使其移位,以在投影光学系统的像场弯曲量改变时基于由第一检测单元检测的第一光学单元的位置和存储在存储器中的改变信息来减小由于所述第一光学单元的移位而引起的所述投影光学系统的投影倍率和对焦位置的改变。
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