[发明专利]用于提高热输出的带有特别设计的真空腔在审
| 申请号： | 201680007066.0 | 申请日： | 2016-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN107406973A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | S·克拉斯尼特泽;M·埃斯塞巴奇 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康表面解决方案股份公司;普费菲孔 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C16/44 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 郭帆扬,宣力伟 |
| 地址： | 瑞士普*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于处理基底的真空腔，其至少包括如下元件用于将热量输入到真空腔的在其中可处理至少一种基底(10)的处理区域中的热输入区域；腔壁(20)，通过其可将热量从处理区域中输出，腔壁包括内部和外部的腔壁侧；以及遮蔽壁(30)，其如此布置在腔壁(20)与处理区域之间，即在处理区域方面，相对于内部的腔壁侧安置有背对的遮蔽壁侧，其特征在于，相对于内部的腔壁侧安置的遮蔽壁侧至少部分、优选地绝大部分设有第一层(31)，其具有ε≥0.65的辐射系数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提高 输出 带有 特别 设计 空腔 | ||
【主权项】：
一种用于处理基底的真空腔，其至少包括如下元件：‑热输入元件，其用于将热量输入到所述真空腔的在其中能处理至少一种基底(10)的处理区域中，‑腔壁(20)，通过其能将所述热量从所述处理区域中输出，所述腔壁包括内部和外部的腔壁侧，以及‑遮蔽壁(30)，其如此布置在所述腔壁(20)与所述处理区域之间，即在所述处理区域方面，相对于所述内部的腔壁侧安置有背对的遮蔽壁侧，其特征在于，相对于所述内部腔壁侧安置的所述遮蔽壁侧至少部分、优选地绝大部分设有第一层(31)，其具有ε≥0.65的辐射系数。
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