[发明专利]场效应装置、相关的装置和方法有效
| 申请号： | 201680008545.4 | 申请日： | 2016-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN107278330B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | S·哈克 | 申请（专利权）人： | 诺基亚技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L29/49;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 付秋瑜;杨晓光 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种装置，包括：通道部件、第一电极和第二电极、以及支撑衬底。第一电极和第二电极被配置为使能电流从第一电极通过通道部件向第二电极的流动，支撑衬底被配置为支撑通道部件、第一电极和第二电极，其中，支撑衬底和电极中的一个或多个被配置以使得通道部件的一部分被悬挂以暴露该部分的相对的表面，所暴露的相对的表面包括在其上被配置为促进电流通过通道部件的流动的变化的相应的功能涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 场效应 装置 相关 方法 | ||
【主权项】：
一种装置，包括：通道部件，第一电极和第二电极，被配置为使能电流从所述第一电极通过所述通道部件向所述第二电极的流动，以及支撑衬底，被配置为支撑所述通道部件、所述第一电极和第二电极，其中，所述支撑衬底和所述电极中的一个或多个被配置以使得所述通道部件的一部分被悬挂以暴露所述部分的相对的表面，所暴露的相对的表面包括在其上被配置为促进电流通过所述通道部件的流动的变化的相应的功能涂层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺基亚技术有限公司，未经诺基亚技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680008545.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：摄像装置、其制造方法和电子设备
- 下一篇：薄膜晶体管及其制造方法
- 同类专利
- 专利分类
