[发明专利]聚硅氧烷粒子、聚硅氧烷粒子的制造方法、液晶滴下工艺用密封剂及液晶显示元件在审
| 申请号： | 201680010161.6 | 申请日： | 2016-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN107250220A | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 上田沙织;山田恭幸 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08G77/20 | 分类号： | C08G77/20;C08J3/12;C09K3/10;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种提高耐药品性、且可以降低透湿性的聚硅氧烷粒子。本发明的聚硅氧烷粒子具有0.1μm以上、500μm以下的粒径，并且，所述聚硅氧烷粒子是具有硅氧烷键、自由基聚合性基团和碳原子数为5以上的疏水基团的聚硅氧烷粒子，或者是使具有自由基聚合性基团的硅烷化合物和具有碳原子数为5以上的疏水基团的硅烷化合物反应并形成硅氧烷键从而得到的聚硅氧烷粒子，或者是使具有自由基聚合性基团且具有碳原子数为5以上的疏水基团的硅烷化合物反应并形成硅氧烷键从而得到的聚硅氧烷粒子。 | ||
| 搜索关键词： | 聚硅氧烷 粒子 制造 方法 液晶 滴下 工艺 密封剂 液晶显示 元件 | ||
【主权项】：
一种聚硅氧烷粒子，其具有0.1μm以上、500μm以下的粒径，并且，所述聚硅氧烷粒子是具有硅氧烷键、自由基聚合性基团和碳原子数为5以上的疏水基团的聚硅氧烷粒子，或者是使具有自由基聚合性基团的硅烷化合物和具有碳原子数为5以上的疏水基团的硅烷化合物反应并形成硅氧烷键从而得到的聚硅氧烷粒子，或者是使具有自由基聚合性基团且具有碳原子数为5以上的疏水基团的硅烷化合物反应并形成硅氧烷键从而得到的聚硅氧烷粒子。
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