[发明专利]化妆料有效
| 申请号： | 201680010847.5 | 申请日： | 2016-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN107249549B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 木村弘子 | 申请（专利权）人： | 捷鸥化妆品株式会社 |
| 主分类号： | A61K8/25 | 分类号： | A61K8/25;A61Q1/12;A61Q17/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
通过使用下述的合成滑石制备透明性、伸展率、光滑性、对肌肤的亲和度及安全性优异的化妆料，所述合成滑石为用2片四面体片材夹住八面体片材而形成的基本结构的薄片状粒子，所述薄片状粒子包含以下述通式(1)表示的2:1型层状硅酸盐的结晶，该薄片状粒子的体积平均粒径为0.5～100μm，在使用了Cu的Kα射线的不定向粉末X射线衍射测定(XRD)中，存在于2θ＝9.4°±1°的峰的半值半宽度为0.3°以下，且实质上不含有Mg |
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| 搜索关键词： | 化妆 | ||
【主权项】：
一种化妆料，其含有合成滑石，其中，该合成滑石为具有用2片四面体片材夹住八面体片材而形成的基本结构的薄片状粒子，所述薄片状粒子包含以下述通式(1)表示的2:1型层状硅酸盐的结晶，该薄片状粒子的体积平均粒径为0.5～100μm，在使用了Cu的Kα射线的不定向粉末X射线衍射测定(XRD)中，存在于2θ＝9.4°±1°的峰的半值半宽度为0.3°以下，且实质上不含有Mg3Si2O5(OH)4，MgxSiyO10(OH)2···(1)式中，x及y是满足0.50≤x/y≤1.20及6.5≤x+y≤7.5的条件的值。
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