[发明专利]包括热成像阶段的通过等离子体处理容器的方法有效
申请号: | 201680011313.4 | 申请日: | 2016-02-10 |
公开(公告)号: | CN107406984B | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | T·多 | 申请(专利权)人: | 西德尔合作公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/04;C23C16/52;B05D7/22;B29C59/14;G01N21/84;G01N21/90;G01N25/00;H01J37/32;H05H1/24 |
代理公司: | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李丽 |
地址: | 法国奥克特*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 一种用于通过等离子体处理容器(2)以在容器(2)的内表面上沉积阻挡层的方法,所述方法包括以下操作:在等离子体熄灭后成像容器(2)的热图像;比较容器的热图像与储存的参照热图像;如果容器(2)的热图像不同于参照热图像,则改变以下参数中的至少一项:内负压、外负压、前驱气体的流量、微波频率、微波功率、处理持续时间。 | ||
搜索关键词: | 包括 成像 阶段 通过 等离子体 处理 容器 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于通过等离子体处理容器(2)以在容器(2)的内表面上沉积阻挡层的方法,所述方法包括以下操作:/n-将容器(2)引入微波可穿透的壳体(5)中;/n-在容器(2)内产生预定值的内负压;/n-在壳体(5)内产生预定值的外负压;/n-按照预定流量注入前驱气体到容器(2)中;/n-使壳体(5)承受在微波范围内的预定功率和预定频率的电磁波,以在前驱气体中激发等离子体;/n-在预定的处理持续时间期间保持内负压、外负压、前驱气体的注入和电磁波以维持等离子体;/n-熄灭等离子体;/n其特征在于,所述方法还包括以下操作:/n-在等离子体熄灭后成像容器(2)的热图像(27);/n-比较容器的热图像(27)与储存的参照热图像(28);/n-如果容器(2)的热图像(27)不同于参照热图像(28),则改变以下参数中的至少一项:内负压、外负压、前驱气体的流量、微波频率、微波功率、处理持续时间。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的