[发明专利]包括热成像阶段的通过等离子体处理容器的方法有效

专利信息
申请号: 201680011313.4 申请日: 2016-02-10
公开(公告)号: CN107406984B 公开(公告)日: 2019-12-17
发明(设计)人: T·多 申请(专利权)人: 西德尔合作公司
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;C23C16/04;C23C16/52;B05D7/22;B29C59/14;G01N21/84;G01N21/90;G01N25/00;H01J37/32;H05H1/24
代理公司: 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李丽
地址: 法国奥克特*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 一种用于通过等离子体处理容器(2)以在容器(2)的内表面上沉积阻挡层的方法,所述方法包括以下操作:在等离子体熄灭后成像容器(2)的热图像;比较容器的热图像与储存的参照热图像;如果容器(2)的热图像不同于参照热图像,则改变以下参数中的至少一项:内负压、外负压、前驱气体的流量、微波频率、微波功率、处理持续时间。
搜索关键词: 包括 成像 阶段 通过 等离子体 处理 容器 方法
【主权项】:
1.一种用于通过等离子体处理容器(2)以在容器(2)的内表面上沉积阻挡层的方法,所述方法包括以下操作:/n-将容器(2)引入微波可穿透的壳体(5)中;/n-在容器(2)内产生预定值的内负压;/n-在壳体(5)内产生预定值的外负压;/n-按照预定流量注入前驱气体到容器(2)中;/n-使壳体(5)承受在微波范围内的预定功率和预定频率的电磁波,以在前驱气体中激发等离子体;/n-在预定的处理持续时间期间保持内负压、外负压、前驱气体的注入和电磁波以维持等离子体;/n-熄灭等离子体;/n其特征在于,所述方法还包括以下操作:/n-在等离子体熄灭后成像容器(2)的热图像(27);/n-比较容器的热图像(27)与储存的参照热图像(28);/n-如果容器(2)的热图像(27)不同于参照热图像(28),则改变以下参数中的至少一项:内负压、外负压、前驱气体的流量、微波频率、微波功率、处理持续时间。/n
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