[发明专利]用于使基底表面经受连续表面反应的装置

摘要

本发明涉及一种用于使基底表面经受连续表面反应的装置。该装置包括气体歧管(2)，气体岐管包括至少一个前驱体供给通道(4)和至少一个排出通道。气体歧管的一部分形成固定部分(2a)。在气体歧管(2)的固定部分(2a)与基底保持件(6)之间存在至少一个可移除部分。气体歧管(2)还包括用于将前驱体供应至基底(1)的表面并用于从基底的表面排出前驱体的气体分配器(8)。气体分配器(8)被布置为可移除部分。

主权项

1.一种用于使基底(1)的表面经受至少第一前驱体和第二前驱体的连续表面反应的装置，所述装置还包括气体歧管(2)，所述气体岐管包括用于将前驱体供应至所述基底(1)的表面的至少一个前驱体供给通道(4)和用于从所述基底(1)的表面排出前驱体的至少一个排出通道(5)，所述气体岐管(2)的一部分形成固定部分(2a)；用于保持所述基底(1)的基底保持件(6)，所述基底保持件(6)能够沿竖直方向移动，用以在工艺位置与装载位置之间移动所述基底(1)；其特征在于，所述装置还包括：在所述气体歧管(2)的所述固定部分(2a)与所述基底保持件(6)之间的至少一个可移除部分，所述气体歧管(2)还包括气体分配器(8)，所述气体分配器包括用于将前驱体从所述前驱体供给通道(4)供应至所述基底(1)的表面的供应通路(4a)和用于将前驱体从所述基底(1)的表面排出到排出喷嘴的排出通路(5a)，所述气体分配器(8)被布置为可移除部分。