[发明专利]测量装置、光刻系统及曝光装置、以及管理方法、重迭测量方法及组件制造方法

摘要

本发明的测量装置(100)具备可保持基板(W)与XY平面平行移动的滑件(10)、驱动滑件的驱动系统、可从读头部(32)对设置于滑件具有格子部(RG1)的测量面照设多条光束并接收该多条光束各个的来自测量面的返回光束以测量滑件的包含绝对位置坐标的至少3自由度方向的位置信息的位置测量系统(30)、检测基板上的标记的标记检测系统(MDS)以及一边控制滑件的驱动并一边使用标记检测系统分别检测基板上的多个标记一边根据各标记的检测结果与检测时的位置测量系统的测量信息求出各标记的绝对位置坐标的控制装置。

主权项

一种测量装置，测量形成在基板的多个标记的位置信息，其特征在于包括：载台，保持所述基板且能够移动；驱动系统，驱动所述载台；绝对位置测量系统，在所述载台设置具有格子部的测量面与对所述测量面照射光束的读头部中的一方，来自所述读头部的光束照射于所述测量面且接收所述光束从所述测量面返回的返回光束而能够取得所述载台的位置信息；标记检测系统，检测形成在所述基板的标记；以及控制装置，控制由所述驱动系统进行的所述载台的移动，使用所述标记检测系统分别检测形成在所述基板的所述多个标记，并根据所述多个标记各自的检测结果与所述多个标记各自的检测时使用所述绝对位置测量系统所得到的所述载台的位置信息，求出所述多个标记各自的绝对位置坐标。