[发明专利]形成磁隧道结的磁电极的方法及形成磁隧道结的方法有效

专利信息
申请号: 201680012152.0 申请日: 2016-02-16
公开(公告)号: CN107258024B 公开(公告)日: 2020-03-03
发明(设计)人: 曼札拉·西迪克;维托·库拉;古尔特杰·S·桑胡 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L43/12 分类号: H01L43/12;H01L43/08;H01L43/10
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 路勇
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示一种形成磁隧道结的磁电极的方法,其包括:使包括MgO的非磁材料形成于所形成的磁电极的导电材料上方。使非晶体金属形成于所述包括MgO的材料上方。使包括Co及Fe的非晶体磁电极材料形成于所述非晶体金属上方。所述非晶体磁电极材料缺乏B。直接抵靠所述非晶体磁电极材料而形成包括MgO的非磁隧道绝缘体材料。所述隧道绝缘体材料缺乏B。在形成所述隧道绝缘体材料后,在至少约250℃的温度下使所述包括Co及Fe的非晶体磁电极材料退火以从所述隧道绝缘体材料的包括MgO的表面形成包括Co及Fe的结晶磁电极材料。所述包括Co及Fe的结晶磁电极材料缺乏B。本发明还揭示其它方法及非方法实施例。
搜索关键词: 形成 隧道 磁电 方法
【主权项】:
一种形成磁隧道结的磁电极的方法,其包括:使包括MgO的非磁材料形成于所形成的所述磁电极的导电材料上方;使非晶体金属形成于所述包括MgO的材料上方;使包括Co及Fe的非晶体磁电极材料形成于所述非晶体金属上方,所述非晶体磁电极材料缺乏B;直接抵靠所述非晶体磁电极材料而形成包括MgO的非磁隧道绝缘体材料,所述隧道绝缘体材料缺乏B;及在形成所述隧道绝缘体材料之后,在至少约250℃的温度下使所述包括Co及Fe的非晶体磁电极材料退火以从所述隧道绝缘体材料的包括MgO的表面形成包括Co及Fe的结晶磁电极材料,所述包括Co及Fe的结晶磁电极材料缺乏B。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680012152.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top