[发明专利]卷取式成膜装置、蒸发源单元和卷取式成膜方法有效
| 申请号： | 201680012735.3 | 申请日： | 2016-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN107406969B | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 广野贵启 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京华夏正合知识产权代理事务所(普通合伙) 11017 | 代理人： | 韩登营;蒋国伟 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明一方式所涉及的卷取式成膜装置(1)具有退绕辊(2)、卷取辊(3)、冷却辊(4)、蒸发源阵列(6)和气体供给部(7)。蒸发源阵列(6)具有多个第1蒸发源(61(61A～61E))和多个第2蒸发源(62(62A～62F))，其中，所述多个第1蒸发源(61)在与冷却辊4的轴向平行的第1线路(L1)上隔开规定的间隔而配置，所述多个第2蒸发源(62)在与第1线路(L1)平行的第2线路(L2)上与多个第1蒸发源(61)错开半个间距且隔开上述规定的间隔而配置。气体供给部(7)具有多个第1喷嘴部(71(71A～71E))和多个第2喷嘴部(72(72A～72F))，且被配置在蒸发源阵列(6)与冷却辊(4)之间，所述多个第1喷嘴部(71)向来自多个第1蒸发源(61)的蒸气流喷出气体，所述多个第2喷嘴部(72)向来自多个第2蒸发源(62)的蒸气流喷出气体。据此，能抑制薄膜的宽度方向上的膜厚和透过率的偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 卷取 式成膜 装置 蒸发 单元 方法 | ||
【主权项】：
一种卷取式成膜装置，其特征在于，具有退绕辊、卷取辊、冷却辊、蒸发源阵列和气体供给部，其中，所述退绕辊用于退绕薄膜；所述卷取辊用于卷取从所述退绕辊退绕出的所述薄膜；所述冷却辊在所述薄膜的输送方向上被配置在所述退绕辊与所述卷取辊之间，用于对所述薄膜进行冷却；所述蒸发源阵列具有多个第1蒸发源和多个第2蒸发源，其中，所述多个第1蒸发源在与所述冷却辊的轴向平行的第1线路上隔开规定的间隔而配置，所述多个第2蒸发源在与所述第1线路平行的第2线路上，与所述多个第1蒸发源错开半个间距且隔开所述规定的间隔而配置；所述气体供给部具有多个第1喷嘴部和多个第2喷嘴部，且被配置在所述蒸发源阵列与所述冷却辊之间，其中，所述多个第1喷嘴部向来自所述多个第1蒸发源的蒸气流喷出气体，所述多个第2喷嘴部向来自所述多个第2蒸发源的蒸气流喷出气体。
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