[发明专利]用于材料沉积源布置的分配组件的喷嘴、材料沉积源布置、真空沉积系统和用于沉积材料的方法有效
| 申请号： | 201680012862.3 | 申请日： | 2016-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN108474102B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 安德烈亚斯·洛普;戴特尔·哈斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/12 | 分类号： | C23C14/12;C23C14/24;C23C14/56;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种用于连接至分配组件的喷嘴(100)，分配组件用于将已蒸发的材料从材料源引导至真空腔室中。喷嘴包括：用于接收已蒸发的材料的喷嘴入口(110)；用于将已蒸发的材料释放至真空腔室的喷嘴出口(120)；以及在流动方向(111)上从喷嘴入口(110)延伸至喷嘴出口(120)的喷嘴通道(130)，其中喷嘴通道(130)包括具有孔径角(α)的出口区段(131)，孔径角在流动方向(111)上持续增加。另外，提供了一种具有此喷嘴的材料沉积布置、一种具有材料源布置的真空沉积系统、以及一种用于沉积已蒸发的材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 材料 沉积 布置 分配 组件 喷嘴 真空 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于连接至分配组件的喷嘴(100)，所述分配组件用于将已蒸发的材料从材料源引导至真空腔室中，所述喷嘴包括：‑喷嘴入口(110)，用于接收所述已蒸发的材料；‑喷嘴出口(120)，用于将所述已蒸发的材料释放至所述真空腔室；以及‑喷嘴通道(130)，在流动方向(111)上从所述喷嘴入口(110)延伸至所述喷嘴出口(120)，其中所述喷嘴通道(130)包括具有孔径角(α)的出口区段(131)，所述孔径角在所述流动方向(111)上持续增加。
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