[发明专利]光刻用下层膜形成用材料、光刻用下层膜形成用组合物、光刻用下层膜、抗蚀图案形成方法、及电路图案形成方法在审
| 申请号： | 201680013444.6 | 申请日： | 2016-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN107407884A | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | 冈田佳奈;牧野嶋高史;越后雅敏;东原豪;大越笃 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G14/12;G03F7/40;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供包含将改性萘甲醛树脂氰酸酯化而得到的氰酸酯化合物的光刻用下层膜形成用材料。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 下层 形成 用材 组合 图案 方法 电路 | ||
【主权项】：
一种光刻用下层膜形成用材料，其包含将改性萘甲醛树脂氰酸酯化而得到的氰酸酯化合物。
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