[发明专利]用于化学机械研磨的声学发射监控和终点有效
| 申请号： | 201680013942.0 | 申请日： | 2016-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN107427987B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | J·唐;D·M·石川;B·切里安;J·吴;T·H·奥斯特赫尔德 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/013 | 分类号： | B24B37/013;B24B49/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;金红莲 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 化学机械研磨设备包括平台以支撑研磨垫，及原位(in‑situ)声学发射监控系统，该原位声学发射监控系统包括由该平台支撑的声学发射传感器、经配置以延伸穿过研磨垫的至少一部分的波导，及用以接收来自声学发射传感器的信号的处理器。原位声学发射监控系统经配置以检测由基板的变形所造成且通过波导传送的声学事件，且处理器经配置以基于该信号来判定研磨终点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 声学 发射 监控 终点 | ||
【主权项】：
一种化学机械研磨设备，包括：平台，用以支撑研磨垫；及原位声学监控系统，用以产生信号，所述原位声学监控系统包括声学发射传感器及波导，所述声学发射传感器由所述平台支撑，所述波导经定位以将所述声学发射传感器耦合至所述研磨垫中的槽中的浆料。
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